鋁硅合金靶材

硅鋁旋轉靶采用噴涂工藝或熱等靜壓工藝制得，可生產最大長度4000mm，厚度及比例根據客戶要求定制。
硅鋁平面靶采用真空磁懸浮熔煉工藝 ，澆鑄成錠，然后通過熱機械處理和精密機械加工制得，尺寸及比例根據客戶要求定制。


純度：99.9-99.99%；常用比例：90-10Al wt%、70-30Al wt%等。
應用領域：大面積玻璃鍍膜行業、Low-E低輻射玻璃、防刮傷和防眩光玻璃、平板顯示器玻璃、光學、光通訊和光存儲等行業。


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