鋁靶材

鋁旋轉靶采用真空熔煉或冷噴涂工藝制得，尺寸及純度根據客戶要求定制。
鋁平面靶采用真空熔煉工藝制得，尺寸及純度可根據客戶要求加工。

純度：99.9-99.9995%
應用領域：鍍制反光膜、導電膜、半導體薄膜、電容器薄膜、裝飾膜、保護膜、集成電路、顯示器等。

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