鉬靶材

鉬旋轉靶采用熱等靜壓工藝制備制得，尺寸根據客戶要求定制。
鉬平面靶采用熱等靜壓工藝制備制得，尺寸根據客戶要求定制。

純度：99.95-99.97%%
應用領域：太陽能薄膜行業、平板顯示行業、低輻射玻璃行業、半導體行業、光學涂層、智能顯示行業及工具裝飾行業。

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